一直在给解决方案。”

“这还只是光源，后续有一大堆的工艺等着改进呢。

目前的化学研磨，哪里有针对拓扑半金属的工艺。”

化学机械研磨是芯片制造中的关键工艺流程，它通过机械和研磨液实现硅片表面的平坦，避免了硅片表面起伏而导致的电阻值不同引起的电路短路。

硅片表面不平坦不仅会带来电路短路问题，还会造成光刻过程中无法准确对焦，导致线宽控制的失效。

因此它几乎是不可或缺的一部分。

“也许拓扑半金属不需要化学研磨？”

“不需要化学研磨？怎么可能，它是半金属不是常温超导，不是整个内部电阻都为零。

它依然有电阻存在。” 　　 　　现有化学研磨工艺需要研磨液、研磨头和研磨垫等耗材组成，他们都是针对特定材料的耗材，目前工艺中主要还是针对硅研磨和硅氧化物研磨。

因此针对拓扑半金属，完全没有适配的耗材和工艺。

“哪怕需要化学研磨也能找到解决方案，这工艺又不难。”

“不难归不难，问题是时间，我想表达的是两年时间怎么看都不够。”

“为什么要卡两年，是因为台积电的工艺大概率会在两年后来到1nm，也就是现有体系的极限了，光神想的是弯道超车，在他们实现1nm前我们先在那等他们。

问题是两年做不到又怎么样？只要最后整个工艺流程能打通，别说两年，哪怕五年对于中芯国际来说也是大赚。

申海微电子的28nm全国产光刻机可是从20年就在喊要交付，现在都2024年了也没见他们交付成功了，不也没事吗？”

“也对，我们急什么，我们急也没用。”

中芯国际内部参与到712项目中的工程师对于两年能搞定全新的工艺越来越不乐观。

从资本市场来看，同样如此，712工程被阿美利肯知道后，英特尔、台积电和英伟达这些上市公司的股价当天微跌后迅速止跌。

阿美利肯压根不相信他们能做到，哪怕有陈元光。

“不可能，绝对不可能。

华国绝对不可能通过全新的材料绕过光刻机的限制，把芯片推进到1nm工艺制程上。”

虽说华尔街不信，但是华盛顿依然对这一可能性如临大敌，量子计算机已经足够给他们的算力封锁来一拳了，要是再实现了芯片工艺制程的突破，还是比阿美利肯先到1nm，那全球消费电子市场都要面临一次洗牌。

因此他们在国会山紧急召开内部秘密

本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第3页 / 共5页